米乐 m6中国官方网站1.本实用新型涉及纳米材料研磨技术领域，尤其涉及一种纳米新材料生产用研磨设备。
2.纳米材料原则上描述的是指单个单元的尺寸在1至1000纳米之间，但通常为1至100纳米之间的材料，并且这一基本颗粒的总数量在整个材料的所有颗粒总数中占50％以上。
3.纳米材料的球体由于其特性，在零件组装行业运用广泛，但现有的球体在进行研磨时，大都采用机床机械能单个研磨，球体需要人工干预才能进行转动，实现对表面的研磨，这样造成生产的效率低下，故而为此现提出一种纳米新材料生产用研磨设备。
4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中的问题，而提出的一种纳米新材料生产用研磨设备。
6.一种纳米新材料生产用研磨设备，包括底盘，所述底盘上方设置有加工筒，所述加工筒侧壁开设有进料口，所述加工筒内设置有研磨盘，所述研磨盘密布开设有贯穿侧壁的研磨口，所述研磨盘底部通过伸缩环连接有呈漏斗状的集风管，所述集风管底部通过安装环与底盘连接，所述安装环内设置有集风风扇，所述底盘顶部通过螺纹环连接有盖体，所述盖体上设置有伺服电机，所述伺服电机输出端通过轴传动组件连接有研磨盘。
7.优选地，所述底盘上开设有与集风管相连通的集风口，所述集风口侧壁开设有多个贯穿侧壁的进风口。
8.优选地，所述集风管内壁呈上下设置有两层过滤网，两个所述过滤网目数不同，位于过滤网处的所述集风管侧壁均设置有贯穿加工筒侧壁的排出管。
9.优选地，所述轴传动组件包括与伺服电机输出端端部连接的输出轴，所述输出轴端部开设有衔接口，所述衔接口内壁通过抵触弹簧连接有旋转轴，所述旋转轴端部设置有研磨砂盘。
10.优选地，所述衔接口内侧壁开设有多个贯穿侧壁的滑口，所述旋转轴外侧壁固定连接有多个位于滑口内的限位块。
11.优选地，所述研磨盘上设置有凹环，所述研磨砂盘底部固定连接有与凹环相抵触的抵触柱。
14.本装置通过将纳米材料的球体放入到研磨盘上的研磨口内进行限位，利用被抵触弹簧抵触的旋转轴带动研磨砂盘进行转动，设置在底部的集风风扇会产生风力促使球体进
行转动，使得研磨砂盘能对球体进行充分研磨，并能同时实现对多个球体的研磨，保证效率。
15.图1为本实用新型提出的一种纳米新材料生产用研磨设备的立体结构示意图；
16.图2为本实用新型提出的一种纳米新材料生产用研磨设备的主体结构示意；
18.图中：1底盘、2加工筒、3进料口、4研磨盘、5研磨口、6集风管、7安装环、8集风风扇、9盖体、10伺服电机、11进风口、12过滤网、13排出管、14旋转轴、15研磨砂盘、16限位块、17凹环、18抵触柱。
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
21.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
22.参照图1-3，一种纳米新材料生产用研磨设备，包括底盘1，底盘1上方设置有加工筒2，加工筒2侧壁开设有进料口3，加工筒2内设置有研磨盘4，研磨盘4与加工筒2内壁之间通过导向球进行转动连接，从而能实现上下角度的偏差，研磨盘4密布开设有贯穿侧壁的研磨口5，研磨盘4底部通过伸缩环连接有呈漏斗状的集风管6，集风管6底部通过安装环7与底盘1连接，安装环7内设置有集风风扇8，底盘1顶部通过螺纹环连接有盖体9，盖体9上设置有出风孔，盖体9上设置有伺服电机10，伺服电机10输出端通过轴传动组件连接有研磨盘4；进一步地，轴传动组件包括与伺服电机10输出端端部连接的输出轴，输出轴端部开设有衔接口，衔接口内壁通过抵触弹簧连接有旋转轴14，旋转轴14端部设置有研磨砂盘15，再进一步地，衔接口内侧壁开设有多个贯穿侧壁的滑口，旋转轴14外侧壁固定连接有多个位于滑口内的限位块16；
23.进一步地，底盘1上开设有与集风管6相连通的集风口，集风口侧壁开设有多个贯穿侧壁的进风口11，集风管6内壁呈上下设置有两层过滤网12，两个过滤网12目数不同，位于过滤网12处的集风管6侧壁均设置有贯穿加工筒2侧壁的排出管13；
24.进一步地，研磨盘4上设置有凹环17，研磨砂盘15底部固定连接有与凹环17相抵触的抵触柱18，位于进料口3处的加工筒2外壁设置有进料槽板，便于物料进入。
25.本实用新型在进行使用时，将少于或等于开设在研磨盘4上的研磨口5数量的球体经进料口3放入到研磨盘4内，此时为设备通电，伺服电机10输出端会进行旋转，使得与输出端连接的旋转轴14进行转动，旋转轴14转动时，会带动与之连接的研磨砂盘15进行转动，研磨砂盘15在转动时，会使得位于研磨盘4上的球体进行转动并移动，并且由于设置在研磨砂盘15底部的抵触柱18在转动时，会使得研磨盘4进行倾斜，会使得位于其上的球体移动到研磨口5内进行限位，设置在底部的集风风扇8开始工作，集风风扇8会产生吹力，在集风管6的作用下会从研磨口5向上吹出，使得位于研磨口5内的球体其不平整的外表面不断的进行转动，设置在研磨砂盘15会是吸纳对球体的有效研磨，在研磨时，会使得球体经研磨口5掉出，完成加工。
26.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
技术特征：1.一种纳米新材料生产用研磨设备，包括底盘(1)，其特征在于，所述底盘(1)上方设置有加工筒(2)，所述加工筒(2)侧壁开设有进料口(3)，所述加工筒(2)内设置有研磨盘(4)，所述研磨盘(4)密布开设有贯穿侧壁的研磨口(5)，所述研磨盘(4)底部通过伸缩环连接有呈漏斗状的集风管(6)，所述集风管(6)底部通过安装环(7)与底盘(1)连接，所述安装环(7)内设置有集风风扇(8)，所述底盘(1)顶部通过螺纹环连接有盖体(9)，所述盖体(9)上设置有伺服电机(10)，所述伺服电机(10)输出端通过轴传动组件连接有研磨盘(4)。2.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨设备，其特征在于，所述底盘(1)上开设有与集风管(6)相连通的集风口，所述集风口侧壁开设有多个贯穿侧壁的进风口(11)。3.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨设备，其特征在于，所述集风管(6)内壁呈上下设置有两层过滤网(12)，两个所述过滤网(12)目数不同，位于过滤网(12)处的所述集风管(6)侧壁均设置有贯穿加工筒(2)侧壁的排出管(13)。4.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨设备，其特征在于，所述轴传动组件包括与伺服电机(10)输出端端部连接的输出轴，所述输出轴端部开设有衔接口，所述衔接口内壁通过抵触弹簧连接有旋转轴(14)，所述旋转轴(14)端部设置有研磨砂盘(15)。5.根据权利要求4所述的一种纳米新材料生产用研磨设备，其特征在于，所述衔接口内侧壁开设有多个贯穿侧壁的滑口，所述旋转轴(14)外侧壁固定连接有多个位于滑口内的限位块(16)。6.根据权利要求4所述的一种纳米新材料生产用研磨设备，其特征在于，所述研磨盘(4)上设置有凹环(17)，所述研磨砂盘(15)底部固定连接有与凹环(17)相抵触的抵触柱(18)。7.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨设备，其特征在于，位于进料口(3)处的所述加工筒(2)外壁设置有进料槽板。技术总结
本实用新型公开了一种纳米新材料生产用研磨设备，包括底盘，底盘上方设置有加工筒，加工筒侧壁开设有进料口，加工筒内设置有研磨盘，研磨盘密布开设有贯穿侧壁的研磨口，研磨盘底部通过伸缩环连接有呈漏斗状的集风管，集风管底部通过安装环与底盘连接，安装环内设置有集风风扇，底盘顶部通过螺纹环连接有盖体，盖体上设置有伺服电机，伺服电机输出端通过轴传动组件连接有研磨盘。本实用新型通过将纳米材料的球体放入到研磨盘上的研磨口内进行限位，利用被抵触弹簧抵触的旋转轴带动研磨砂盘进行转动，设置在底部的集风风扇会产生风力促使球体进行转动，使得研磨砂盘能对球体进行充分研磨，并能同时实现对多个球体的研磨，保证效率。效率。效率。
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